SK하이닉스 핵심기술 훔쳐 중국으로…대법서 실형 확정

'CIS 공정 기술' 무단 유출 前 직원

현지 근무 중 경쟁사 이직 위해 범행

경기 이천시 SK하이닉스 본사 모습.ⓒ뉴시스

중국으로의 이직을 위해 SK하이닉스의 이미지센서반도체(CIS) 공정 관련 기술 등 영업비밀을 뺴돌린 혐의로 재판에 넘겨진 전직 직원에게 실형이 확정됐다.

1일 법조계에 따르면 대법원 1부(주심 서경환 대법관)는 산업기술보호법, 부정경쟁방지법상 영업비밀 국외 누설, 업무상 배임 등 혐의로 기소된 A씨의 상고를 기각하고 징역 1년6개월을 선고한 원심을 확정했다.

대법은 "원심 판단에 논리와 경험의 법칙을 위반해 자유심증주의의 한계를 벗어나거나 산업기술보호법에서 정한 '산업기술'에 관한 법리를 오해한 잘못이 없다"고 판시했다.

A씨는 SK하이닉스 중국 판매법인 상해사무소에서 주재원으로 근무하던 2022년 2월 현지 회사 입사용 이력서 작성을 위해 CIS 기술 관련 영업비밀 자료를 무단 유출한 혐의를 받았다.

A씨는 영업비밀 자료 8개(총 186장)를 출력하고, 170개(총 5900장)를 사진 촬영한 것으로 조사됐다. 유출된 자료에는 CIS 공정 기술 관련 내용이 포함됐다. CIS 기술은 렌즈로 들어오는 빛을 감지해 전기적 영상 신호로 변환하는 기술로, 스마트폰부터 자율주행 자동차 등 다양한 분야에 활용되는 핵심 기술로 꼽힌다.

1심은 A씨에게 징역 1년6개월을 선고하며 "영업비밀은 SK하이닉스가 오랜 시간과 자원을 투자해 개발한 것으로, 기술 정보가 해외 경쟁업체로 유출되는 것을 가볍게 다루면 기업들의 손해가 막심함은 물론 국가 경쟁력 약화로 이어질 수 있어 엄중히 처벌해야 한다"고 지적했다.

A씨는 형이 무겁다며 항소했으나, 2심도 "피고인은 중국 판매법인 보안이 다소 소홀한 점을 이용했고 범행 경위 등 죄질이 무거워 엄벌이 불가피하다"고 기각했다. 대법원도 원심 판단에 문제가 없다고 보고 A씨의 상고를 기각해 징역 1년6개월의 실형을 확정 지었다.