삼성전자, 올해 시설투자 35조...전년대비 8조↑

반도체 28조9000억-DP 4조3000억 투자

삼성전자 화성사업장 V1라인 전경.ⓒ삼성전자

삼성전자가 올해 시설투자로 총 35조원이 넘는 금액을 집행한다. 이는 지난해 시설투자 규모가 26조9000억원였던 것을 감안하면 8조원 넘게 늘어나는 것이다.

삼성전자는 29일 공시를 통해 올해 연간 시설투자 규모는 약 35조2000억원이 될 것으로 전망했다.

사업별로는 반도체 28조9000억원으로 전체의 82%를 차지햐며 절대적인 비중을 차지한다. 이는 지난해(22조6000억원)보다도 6조3000억원 늘어나는 것이다.

디스플레이는 4조3000억원 수준이 될 것으로 보인다. 부품이 33조2000억원으로 전체의 94.3%를 차지한다.

3분기 누적 기준으로는 총 25조5000억원(반도체 21조3000억원·디스플레이 3조1000억원)이 집행돼 4분기에 9조7000억원 가량이 집행될 예정이다.

회사측은 "반도체는 메모리 선단공정 전환, 인프라 투자 및 메모리·파운드리(위탁생산) 증설 투자 등에, 디스플레이는 QD디스플레이 캐파(생산력) 증설 투자 등에 집중될 것"이라며 "부품 사업 중심 기술 리더십 강화를 통한 사업 역량 제고가 기대된다"고 설명했다.