삼성전자, 작년 시설투자 26조9천억 집행…전년比 8.5%↓

“올해 미래 성장 사업의 중장기 강화를 위한 투자 진행”

서울 서초동 삼성서초사옥 앞에서 삼성 깃발이 휘날리고 있다.ⓒ데일리안 홍금표 기자

삼성전자는 30일 지난해 시설투자에 약 26조9000억원을 집행했다고 밝혔다. 전년(29조4000억원) 동기 대비 8.5% 감소한 수치다.

사업별로 반도체는 22조6000억원으로 전년(23조7000억원) 동기 대비 4.6% 감소했다. 회사 측은 반도체메모리의 경우 지난해 공정 전환에 집중하면서 투자가 감소됐고, 파운드리는 극자외선 (EUV) 7나노 등 미세 공정을 적용하기 위한 설비 증설로 투자가 늘었다고 설명했다.

디스플레이의 경우 2조2000억원의 투자를 단행하며 전년(2조9000억원) 동기 대비 24% 줄었다. 중소형 A4라인 투자가 끝남으로 감소현상을 보였으며 삼성전자는 올해 수요 변동 상황에 맞춰 탄력적으로 투자할 계획이다.

회사 측은 “메모리의 경우 중장기 수요 대응을 위한 인프라 투자를 지속하고, 설비투자는 시황 회복 추이에 맞춰 대응할 방침”이라고 밝혔다.

이어 “시스템반도체와 디스플레이, 인공지능(AI), 5세대 이동통신(5G)와 같은 미래 성장 사업의 중장기 경쟁력 강화를 위한 투자를 계획대로 진행할 예정”이라고 강조했다.