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LG화학, SK이노에 대화 제의…“대화 주체는 양사 최고경영진”

조재학 기자
입력 2019.09.03 10:15 수정 2019.09.03 10:15

“‘국익훼손’ 프레임 호도…기술개발 활동 보호해야”

“잘못 인정하고 재발방지 약속 및 보상 논의해야”

“‘국익훼손’ 프레임 호도…기술개발 활동 보호해야”
“잘못 인정하고 재발방지 약속 및 보상 논의해야”

LG화학 로고.ⓒLG화학 LG화학 로고.ⓒLG화학

LG화학이 올해 초 미국 무역위원회(ITC)에 SK이노베이션 제소하며 시작된 배터리 특허 침해 소송전이 확전되는 양상이다. LG화학과 SK이노베이션은 관련 입장문을 주고받으며 양측의 공방전은 더 첨예해지는 모양새다.

다만 LG화학은 SK이노베이션이 잘못을 인정하고 재발방지 약속과 보상 논의를 할 의사가 있다면 대화에 응할 것임을 재차 확인했다.

LG화학은 3일 입장문을 통해 “그동안 SK이노베이션은 대화 의사를 간접적으로 표명했을 뿐 당사에 단 한 번도 직접적인 대화를 요청한 적이 없다”며 “SK이노베이션이 잘못을 인정하고 진정성 있는 사과 및 재발 방지를 약속하는 한편 손해배상 방안을 진지하게 논의할 의사가 있다면 언제든지 대화에 응할 것”이라고 밝혔다.

아울러 “대화의 주체는 소송 당사자인 양사 최고경영진이 진행하면 될 것”이라고 덧붙였다.

LG화학은 최근 양사의 소송전이 국익을 헤친다는 프레임에 대해 ‘어불성설’이라고 일축했다.

LG화학은 “이번 사건의 피해자는 당사이며, SK이노베이션은 당사 비방 및 여론호도 등 ‘적반하장’격 행위들을 통해 소송의 본질을 심하게 훼손하고 있다”며 “SK이노베이션은 당사의 기술과 영업비밀을 활용해 공격적인 수주활동을 벌여왔고, 이는 사익 추구를 위한 목적이 명백함에도 당사가 핵심기술과 영업비밀 보호를 위해 제기한 정당한 소송을 ‘국익훼손’이라고 비난하는 것은 어불성설”이라고 밝혔다.

이어 “SK이노베이션이 사익 추구를 위해 한 부당행위에 대해 ‘국익훼손’ 프레임으로 호도해 유야무야 넘어간다면 해외 경쟁사도 이를 악용해 장기적으로 영업비밀 유출은 더 심화될 것”이라며 “선도적이고 모험적인 기술개발 활동이 보호받을 수 없게 돼 오히려 국가경쟁력도 훼손될 것”이라고 강조했다.

LG화학은 ITC 소송 배경과 구체적인 정황에 대해 다시 한 번 밝혔다. LG화학이 지난 2017년 10월과 2019년 4월 두 차례 SK이노베이션에 내용증명을 보내 당사 핵심 인력에 대한 도를 넘은 채용 행위 중단을 요청했으나, SK이노베이션은 2년 만에 100명에 가까운 인력을 대거 채용했다는 것이다.

LG화학은 “SK이노베이션은 채용 과정에서 경력직 공개채용 방식을 이용했으나, 실질적으로는 헤드헌터와 전직자들을 통해 특정 분야의 인원을 타게팅한 후 입사지원을 적극 권유했다”며 “서류전형을 통과한 인원에게는 SK이노베이션이 마련한 이력서 양식에 시기별로 프로젝트 내용 및 함께한 동료 전원의 실명을 기술하도록 했다”고 주장했다.

또 “면접전형에서는 업무성과를 별도의 발표자료를 통해 상세히 제출하도록 요구했다”며 “SK이노베이션의 해당 분야 전문 인력 다수를 면접관으로 참석시켜 지원자가 습득한 당사의 기술 및 노하우를 경쟁사에 어떻게 접목시킬 수 있을지 중점적으로 질문했다”고 덧붙였다.

조재학 기자 (2jh@dailian.co.kr)
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