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삼성전자·SK하이닉스, 지난해 R&D 투자 역대 최대

이홍석 기자
입력 2019.04.02 09:22 수정 2019.04.02 10:29

삼성, 15년만데 매출 대비 비중 최대...SK, 3년연속 2조원대

사상 최고 실적 토대 선제적 기술 투자...초격차 유지 전략

지난해 삼성전자와 SK하이닉스의 연구개발(R&D) 투자가 역대 최고치를 기록했다. 사진은 삼성전자 중국 시안 반도체 공장에서 현지 직원들이 생산라인을 살펴보고 있는 모습.(자료사진)ⓒ삼성전자 지난해 삼성전자와 SK하이닉스의 연구개발(R&D) 투자가 역대 최고치를 기록했다. 사진은 삼성전자 중국 시안 반도체 공장에서 현지 직원들이 생산라인을 살펴보고 있는 모습.(자료사진)ⓒ삼성전자
삼성, 15년만데 매출 대비 비중 최대...SK, 3년연속 2조원대
사상 최고 실적 토대 선제적 기술 투자...초격차 유지 전략


지난해 삼성전자와 SK하이닉스의 연구개발(R&D) 투자가 역대 최고치를 기록했다. 사상 최대 실적을 토대로 선제적으로 기술 투자를 단행해, 경쟁업체들과 초격차를 유지하겠다는 전략으로 풀이된다.

2일 금융감독원 전자공시시스템에 따르면 삼성전자가 지난해 지출한 R&D 관련 비용(연결 기준)은 총 18조6600억원으로 기존 최대였던 전년도(16조8100억원) 대비 약 11.0%나 증가했다.

총 매출(243조7700억원)에서 차지하는 비중도 7.65%에 달해 지난 2003년(8.10%) 이후 최고치를 기록했다. 10년전인 지난 2009년(7조5600억원)과 비교하면 2배 이상에 달하는 수치다.

회사측은 전날인 1일 금감원에 제출한 사업보고서를 통해 주요 R&D 성과로 세계 최초의 차세대 스마트폰용 256기가바이트(GB)급 저장매체 유니버설플래시스토리지(UFS·Universal Flash Storage) 양산, 세계 최초의 차세대 10나노급 8기가비트(Gb) DDR4 D램 양산, 세계 최고 속도의 5세대 V낸드 기반 PC 솔리드스테이트드라이브(SSD) 양산 등을 꼽았다.

이어 "세계 IT업계에서의 위상을 더욱 굳건히 하기 위해 차세대 기술과 원천기술을 확보해 세계 산업 기술을 이끄는 진정한 선도기업이 되도록 최선을 다하고 있다"고 설명했다.

삼성전자는 R&D 활동을 지적 재산으로 구축하기 위한 특허 관리도 강화했다. 지난해 국내에서 2055건, 미국에서 6062건의 특허를 각각 획득했다고 밝혔다.

SK하이닉스는 지난해 총 2조8950억원을 R&D 비용으로 지출했다. 전년(2조4870억원)보다 16.4%나 늘어난 것으로 3년 연속 2조원대 지출을 이어가며 또다시 신기록을 세웠다.

다만 지난해 역대 최고 실적을 올리면서 매출액에서 차지하는 R&D 비용의 비중은 7.2%로 전년(8.3%)보다 다소 하락했다.

회사측은 사업보고서에서 "메모리연구소·제품개발연구소·낸드솔루션&미래기술 연구소 등에서 R&D 활동에 주력하고 있다"며 "지난해 말 기준 반도체와 관련해 모두 1만2786건(특허 1만2588건·상표 198건)의 지식재산권을 보유하고 있다"고 설명했다.

이홍석 기자 (redstone@dailian.co.kr)
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